吉林金属硅细粉是集成电路、电子元件必不可少的原材料，然而，要是硅粉中含有太多的磷杂质，则做不了半导体器件了。那么，我们应如何去除硅粉中的磷杂质呢？对于这一问题，国兴冶金耐材有限公司为我们做出了解答，下面我们一起来了解一下。
      1.将吉林金属硅粉置于感应炉中，并通入氮气，使其在1460～1500℃下熔化；
      2.将体积比为1.2:1～1:1.5的二氧化硅和碳酸锂置于另一个坩埚中，在1440～1460℃下熔化；
      3.将熔化好的二氧化硅-碳酸锂混合物直接倒入熔化的硅液中，30分钟后停炉；
      4.待冷却后，硅与渣会自然分离，得到破碎硅；
      5.将得到的破碎硅用1:6的HF酸与HCl浸泡15～30小时，清除破碎硅中的磷与吉林其他金属杂质；
      6.将得到的硅进行重熔和定向凝固。
      以上就是去除硅粉中的磷杂质的方法，在以后的工作中金属硅细粉中含有磷等杂质时，我们可采用上述方法将其去除，进而提高硅粉的纯度，使其在集成电路，电子元件等领域发挥******作用。想了解更多关于这方面的信息请多多关注我们的网站，或者您也可以直接致电我们，我们会竭诚为您服务。